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西安太康生物科技有限公司

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光刻技术基本参数
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产品: 浏览次数:7光刻技术基本参数 
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最后更新: 2023-10-10 14:27
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详细信息
一、microArch S240---3D打印连接器介绍
 
microArch S240 10μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统,将需打印模型分层投影至树脂液面,快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势,被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。
 
二、基本参数
 
光源:UV-LED(405nm)
 
打印材料:硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等
 
光学精度:10μm
 
打印层厚:10-40μm
 
打印尺寸:
 
①模式一:19.2m(L)×10.8mm(W)×75mm(H)(单投影模式)
 
②模式二:100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)(拼接模式)
 
③模式三:100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)(重复阵列模式)
 
文件格式:STL
 
主机外形尺寸:650㎜(L)×700㎜(W)×790㎜(H)
 
重量:300kg
 
电气要求:200-240V AC,50/60HZ,2kW
 
了解更多:http://www.cqbmftec.com/Products-36278301.html
https://www.chem17.com/st443641/product_36278301.html
原文链接:http://www.wxjsj.net/chanpin/show-33250.html,转载和复制请保留此链接。
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