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25μm高精密3D打印系统

简要描述：nanoArch P150 25μm高精密3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

 

一、产品介绍

nanoArch P150 25μm高精密3D打印系统采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术和数字微流控芯片。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

 

nanoArch P150是科研级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

 

二、微纳3D打印系统打印材料类型

通用型

丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA、数字微流控芯片等。

 

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

 

三、nanoArchR P150 25μm高精密3D打印系统系统性能

 

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https://www.chem17.com/st443641/product_36232180.html

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